谈谈最近十分流行的Ｄ-SUP管

cbvyi

栅条技术（垂直方向无像素间隔）可以造成更鲜艳更高亮度的原色，因为原色干涉可以提高原色自身的亮度，（周边的原色光被吸收了从而增加了原色光的总光量）但颜色要做到正确应该有相应的电路来把这种干涉降至最低，不知用什么算法（不干涉原色假定为6：3的光量，干涉后为7：5的光量，电路处理后应该为6.5：4更接近不干涉时的原色6：3的比例。当然能做到8：4的光量比例是最好的了，这样原色光增强的同时光的比例却能维持不变）。单枪三束电子枪技术不会是三束电子枪各射击不同的原色点吧，从而可以根据不同原色光的特性用不同性能的针对性的电子枪进行轰击？

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同光枪三束电子束是同时轰击的？使得同像素的三原色被同时点亮，然后一个像素一个像素的逐次扫射出图像？如果三束电子束同时轰击一个像素的三原色，那么三原色亮度不等应该三束光电子的强度应该也跟根数值不同而不同。光束不精确聚集在固定的位置（原色点）上怎么办，好像在原色点上面加个罩子，罩子有孔直接电子经这个孔对准了原色点的位置，没孔的地方就是原色间的空隙不发光的区域（根据像素点规则每个像素间有20%左右的暗区不发光区域）要是电子束的一部分打在没孔的地方只有剩下的光束通过孔的话那么光束强度不相应的被衰减了吗？为什么三原色像素点不能不用加罩子而是在电子束轰击暗区后直接不发光呢？在那些暗区不涂荧光粉不就行了吗？或者为什么不在电子束运行的过程中加个管子让电子按着这个管子的路径直接到达非常接近原色点时不就精确轰击原色点了吗？同时这样可以不可以把原色间暗区空隙给去掉呢？电子穿过由液晶做的路径管到达三原色荧光粉然后轰击出光能行不行。在电子枪的末端（荧光粉层）和开始端（电子束喷发枪管）由极细的液晶分子构成的管道相连，从而可以提升电子枪轰击原色点的精确聚焦程度，而在非常接近光束枪的位置安装分子管道光束会比较精确的射入该分子管内（因为距离更近更容易对准因为漂移值更低，因为对准是角度起变化的，同角度距离越远漂移值越大）

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反光好像是高透光的同时一部分不能透过的光被原原本本的反射回来。荧光粉层反射光会不会像玻璃一样厉害不知道，大部分的东西反光都不高，因为大部分的东西吸光强透光差，只有表面非常光洁材质高度一致的才容易反光。很多东西反射光比较强但没有干扰图像因为它的材质不一致，本身像素点之间深一块浅一块（吸光率不同）这种深浅不同的光差比它本身反射出的深浅光差强度高出很多，所以把反光的图像遮掩了。光洁的材质自己没有深浅所以没法遮掩反光的图像的深浅，所以容易形成反光，不过这种反射光强度不高一般不太容易引人注意，要非常仔细才能看清楚。

caodi

买东西前还有把自己培养成工程师，累不累啊，直接选牌子和价格即可。同一品牌，功能越少，价格越高的，即可。