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【价格连翻17倍,350nm二手光刻机遭疯抢,国产商该出手了(转)】 光刻机是半导体芯片产业不可或缺的代工设备,伴随着全球缺芯问题的到来,光刻机的“身价”也在不断暴涨。除了ASML的EUV光刻机外,传统的DUV甚至干刻式光刻机的价格也在上涨。2021年11月9日消息,佳能在1995年推出的型号为“FPA3000i4”的光刻机,价格暴涨17倍。原先在2014年售价不到10万美元一台的FPA3000i4光刻机,如今卖到了170万美元。难以想象,如今的半导体领域中,光刻机是有多稀缺。据了解,日本佳能推出的FPA3000i4光刻机,仅支持4到8英寸的晶圆制造,分辨率仅达0.35μm,即350纳米。且不说这台光刻机值不值,26年前的古董卖到这个价格,这在往常是十分罕见的。不过这也从侧面揭露了目前半导体产业的一个问题,即产能分布不均匀,半导体芯片厂商之间的差距过大、行业技术参差不齐。这不利于半导体行业的整体发展。据了解,28纳米及其以上制程的芯片,仍占半导体芯片市场的60%,算上14纳米,共占芯片半导体市场的70%左右。也就是说,尽管芯片代工制程来到了3纳米,但就半导体产业目前的发展现状来看,28纳米及以上制程的芯片,仍然位居市场主流地位。日本尼康FPA3000i4光刻机的价格暴涨,揭露出目前半导体芯片市场对于光刻机的强劲需求。这对于国产光刻机厂商来说是一个难得的机会。目前国产半导体设备商已经实现了28纳米芯片制造设备的全产业链覆盖,上海微电子完成了28纳米光刻机的设备攻坚。据了解,上海微电子在国内中低端光刻机市场中的市场份额占80%。旗下的光刻机设备大多都被国产半导体厂商买去。不同于一般设备,由于光刻机设备价格昂贵,因此客户壁垒相对较高。这便加重了上海微电子开辟国外市场的难度。科技是第一生产力,经济是支撑科技发展的前提。对于上海微电子来说,想要在光刻机领域中有更好的发展,技术研发投入是少不了的。而增加技术研发投入的前提,便是有钱。在光刻机设备极度短缺的背景下,如果上海微电子能够抓住机会,积极拓宽国内外市场,相信会给企业带来不小的利润。毕竟350纳米的光刻机都能卖到170万美元,上海微电子的90、220纳米光刻机能够带来的利润更不用多说。$中讯四方(NQ430075)$ |
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